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ゾルゲル法

117 :名も無きマテリアルさん:01/12/23 17:12
ULSIの絶縁膜とか不揮発性メモリに使いたいので
ある程度手間をかけても緻密で、しかも方位をコントロールした
膜が欲しいらしいです<UV照射
奈良先端の岡村先生が去年電子ビーム照射をやっていたような。。。

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